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產(chǎn)品中心材料樣品處理等離子清洗機KT-S2DQXplasma離子清洗機射頻電源
產(chǎn)品簡介
plasma離子清洗機射頻電源，不同氣體的等離子體具有不同的化學性能，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性，能氧化光刻膠反應(yīng)生成氣體，從而達到清洗的效果。
| 品牌 | 鄭科探 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
plasma離子清洗機射頻電源，
等離子體清洗的機理，主要是依靠等離子體中活性粒子的"活化作用"達到去除物體表面污漬的目的。等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。等離子體清洗技術(shù)的最大特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)高分子材料，可實現(xiàn)整體和局部以及復雜結(jié)構(gòu)的清洗。
plasma離子清洗機射頻電源
供電電源 | AC220V（AC110V可選) |
工作電流 | 整機工作電流不大于3.5A(不含真空泵) |
射頻電源功率 | 150W |
射頻頻率 | 13.56MHz |
頻率偏移量 | ＜0.2MHz |
特性阻抗 | 50歐姆，手動匹配 |
耦合方式 | 電容耦合 |
真空度 | ≤50Pa |
腔體材質(zhì) | 高純石英 |
腔體容積 | 2L(內(nèi)徑110MMX深度220MM) |
觀察窗內(nèi)徑 | Φ50 |
氣體流量 | 0—50ml/min（其他量程可選） |
過程控制 | 過程手動控制 |
清洗時間 | 手動開關(guān) |
開蓋方式 | 鉸鏈側(cè)開式法蘭 |
外形尺寸 | 450x450x360mm |
重量 | 23Kg |
真空室溫度 | 小于65°C |
冷卻方式 | 強制風冷 |
標配 | KF16真空管1米，kf16卡箍2個，不銹鋼網(wǎng)匣1個，電源線一根，說明書一本。 |
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